pte19980812009 in Business
Reinigung von Halbleitern mit Laserstrahlen
Neues Reinigungsverfahren gilt als umweltfreundlicher
Hamburg (pte) (pte009/12.08.1998/16:49)
Wissenschaftler des Fraunhofer-Instituts für Produktionstechnik und Automatisierung entwickelten ein effizientes Verfahren zur Reinigung von Halbleiterstrukturen in Fertigungs- und Wiederaufbereitungsprozessen. Dabei lösen Laserstrahlen und Trockeneis Verunreinigungen von den teuren Materialien.
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