Noch kleinere Chips möglich

0,08-Mikron-Verfahren zur Chip-Produktion entwickelt

Dallas (pte) (pte004/26.02.1998/09:54)

Forscher der Texas University und der Photomaskenhersteller Dupont Photomasks (DPI) haben ein Verfahren vorgestellt, das die gängige Chip-Produktion unter die bisher angenommene Miniaturisierungsgrenze von 0,1 Mikrometer für einzelne Transistoren bringt. Von DPI stammen die Photomasken, mit deren Hilfe die Strukturen mittels Ultraviolett-Licht auf die Wafers gebrannt werden können. Die Universität entwickelte das entsprechende Brennverfahren.

Bislang übliche Belichtungsprozeduren bedienen sich Röntgen- oder Elektronenstrahlen zum Ausbrennen der Chipelemente. Die Forscher, die bereits einen Wafer mit Strukturen von 0,08 Mikrometer Größe hergestellt haben, gehen davon aus, daß mit der Technik das gegenwärtige Tempo der Verfeinerungen der Chip-Produktion bis ins Jahr 2009 durchgehalten werden kann - und zwar, ohne daß die Produktionsanlagen völlig umgebaut werden müssen. (Ende)