pte19990506004 in Business
Neue Lithographieverfahren für die Chipfertigung
Preiswerte Strahlquelle für extrem ultraviolettes Licht
Aachen (pte) (pte004/06.05.1999/08:10)
Immer kleinere Strukturgrößen bringen die bisherige optische Lithographie an ihre Grenzen. Deshalb sind neue Lithographieverfahren gefragt, wie etwa die extrem UV-Lithographie. Forscher am Aachener Fraunhofer Institut für Lasertechnik http://www.ilt.fhg.de/ konstruierten eine preiswerte und beständige Strahlungsquelle für extrem ultraviolettes Licht (EUV-Strahlung). Als Regel für die optischen Lithographieverfahren gilt: Je geringer die Wellenlänge des verwendeten Lichts desto kleinere Strukturen können auf den Chips erzeugt werden.
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