pte20120907002 in Forschung
Neues Lithografieverfahren revolutioniert Industrie
Flüssigkeiten bis in nanometrischen Bereich auf Oberflächen auftragbar
Bologna (pte002/07.09.2012/06:05)
Mitarbeiter des zum Nationalen Forschungsrat CNR gehörenden Istituto per lo Studio dei Materiali Nanostrutturati http://www.ismn.cnr.it haben ein revolutionäres Lithographieverfahren entwickelt, mit dem Flüssigkeiten jeder Art bis hin in den nanometrischen Bereich auf Oberflächen aufgetragen und gedruckt werden können. Der Clou: Die "Lithographic Controlled Wetting"-Methode bedarf keiner besonderen Ausrüstung oder Infrastruktur.
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