Leistungsfähigere MOSFETs durch Nanostrukturierung von Chip-Oberflächen

Am Forschungszentrum Jülich http://www.fz-juelich.de/ werden neue Herstellungstechniken für MOSFETs entwickelt, die noch geringere Abstände der Bauteile eines Transistors zulassen. Die Nanostrukturierung biete hier großes Potenzial. Die Technik muss aber noch verbessert und für die industrielle Anwendung optimiert werden. Bei dieser Methode kombinieren die Wissenschaftler die optische Lithographie mit einem Oxodationsverfahren. So werden die Nanostrukturen durch Materialumverteilung quasi von selbst erzeugt.