pte20040802025 in Forschung
EUV-Technologie: Intel setzt nächsten Entwicklungsschritt
Pilotanlage zur Herstellung von EUV Masken in Betrieb
Santa Clara (pte025/02.08.2004/12:17)
Die Intel Corporation hat nach eigenen Angaben die weltweit erste kommerzielle EUV Lithographie Anlage in Betrieb genommen und eine Pilotanlage zur Produktion von EUV Masken eingerichtet. Laut Intel wird die derzeitige Belichtungstechnik ihre Grenzen in wenigen Jahren erreicht haben, die Extrem Ultraviolett (EUV) Technik soll ab 2009 in der Massenfertigung eingesetzt werden. http://www.intel.com/research/silicon/
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