pte20100419015 in Forschung
Seide macht Gehirn-Implantate verträglicher
Ansatz bietet gute Passform bei geringer Gewebereizung
Bethesda (pte015/19.04.2010/10:55)
Ein US-Forscherteam hat Gehirnimplantate entwickelt, die sich passgenau an die Oberfläche des Gehirns anlegen. "Diese Implantate haben das Potenzial, möglichst guten Kontakt zwischen Elektroden und Gewebe zu sichern und gleichzeitig Schäden am Gehirn zu minimieren", sagt Walter Koroshetz, stellvertretender Leiter des National Institute of Neurological Disorders and Stroke http://www.ninds.nih.gov .
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