pte20010309017 in Forschung
Intel erzielt Durchbruch bei EUV-Lithografie
10 GHz-Prozessoren bis 2005
Santa Clara (pte017/09.03.2001/11:37)
Entwicklern von Intel http://www.intel.com ist nach eigenen Angaben die Herstellung der ersten Fotomaske für Lithografie mit Extrem-Ultraviolett-Licht (EUV) nach Industriestandards gelungen. Solche Masken sind ein Schlüsselelement für die Erzeugung von noch kleineren und schnelleren Mikroprozessoren, beginnend mit einer Größe von 0,07 Micron. Extrem-Ultraviolett-Lithografie gilt als zukünftiger Standard in der Halbleiterindustrie. Die Struktur eines Chips wird durch ein fotochemisches Verfahren in das Silizium geätzt. http://www.intel.com/pressroom/archive/releases/20010308tech.htm
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