Sharp baut Dünnschicht-Kapazitäten aus (sharp-world.com)

Taipeh (pte025/12.10.2007/13:45) - Der japanische Elektronikkonzern und führende Solarzellenhersteller Sharp http://sharp-world.com rechnet für die Zukunft mit einem rasanten Anstieg der Bedeutung der Dünnschicht-Technologie. Ab 2013 werde der Markt eine nennenswerte Stellung erobern, prognostiziert Sharp-Manager Tatsuo Saga auf dem Branchentreff Taiwan International Photovoltaic Forum & Exhibition http://www.pvtaiwan.com in Taipeh. Wegen dem hohen Wachstumspotenzial plane Sharp einen entsprechenden Ausbau seiner Kapazitäten, um die künftige Nachfrage befriedigen zu können, berichtet DigiTimes.

Sharp hat bereits angekündigt, ein LCD-Werk der zehnten Generation sowie einen Komplex zur Herstellung von Dünnschicht-Solarzellen bauen zu wollen. Laut Saga soll die Kapazität der Solarzellen-Produktion bereits 2010 - im Jahr der Eröffnung - eine Maximalleistung von einem Gigawattpeak erreichen. Zudem sollen mehr Kapazitäten für die Entwicklung von Solarzellen auf Gallium-Arsen-Basis aufgewendet werden. Diese Verbindung werde in Sharps Solarzellenentwicklung in Zukunft eine der drei Hauptsäulen neben kristallinem und amorphem Silizium darstellen, so Saga.

Auch in Deutschland stellen sich die Solarzellenhersteller auf die künftige Bedeutung der Dünnschicht-Technologie ein. Nach Einschätzung des Bundesverbands Solarwirtschaft http://www.solarwirtschaft.de werden Dünnschicht-Zellen die Silizium-basierten Zellen nicht verdrängen. "Beide Technologien haben sowohl Vor- als auch Nachteile. Sie werden künftig nebeneinander existieren", erklärt Verbandssprecher Sebastian Fasbender gegenüber pressetext. Noch dominiere in Deutschland die Silizium-Variante. Dünnschicht-Zellen kommen auf einen Anteil von zehn Prozent. "Die Technologie wird aber weiter Marktanteile gewinnen", ist sich Fasbender sicher. Eine genaue Prognose sei aber schwierig.

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