Aachen (pte033/05.04.2004/16:47) - Forscher des Fraunhofer Instituts für Lasertechnik (ILT) http://www.ilt.fraunhofer.de haben ein von einem Synchrotron unabgängiges Lichtmikroskop vorgestellt, das Auflösungen unterhalb eines Mikrometers abbilden kann. Auslöser für die Entwicklung war die Halbleiterindustrie. Durch die stetige Verkleinerung der Chipstruktur wird die bisher eingesetzte optische Lithographie in wenigen Jahren an ihre Grenzen stoßen.

Das neue EUV (Extreme Ultraviolett)-Mikroskop besteht aus einer EUV-Quelle, Kollektoren sowie Schwarzschildoptiken und einer CCD-Kamera als Detektor. Die Auflösung wird derzeit nur durch die Größe der Pixel in der CCD-Kamera des Detektors begrenzt. Bereits ein Lichtpuls reicht aus, um die untersuchenden Strukturen abzubilden. Derzeit setzt die Halbleiterindustrie in der Produktion Ultraviolett-Laser mit 248 nm und 193 nm Wellenlänge ein. Für die Fertigung noch feinerer Strukturen ist daher ein Technologiesprung zu einer neuen Lithographie-Generation nötig. Als aussichtsreichster Kandidat gilt das Extreme Ultraviolett (EUV), das mit Wellenlängen von 11 bis 14 Nanometer weit unterhalb des sichtbaren Lichts nahe bei den Röntgenstrahlen liegt. EUV-Licht konnte bisher jedoch nur in großen Elektronenspeicherringen erzeugt werden.

"Mit verschiedenen Demonstrationen haben wir bereits die Voraussetzungen für den Vorstoß in die Nanowelt geschaffen. Mit der Verfügbarkeit von EUV-Lichtquellen und Optiken eröffnen sich eine Vielzahl von Anwendungen, die weit über den Einsatz in der Lithographie hinausgehen", erklärt Norbert Kaiser vom ILT. Durch die Kombination mit spektroskopischen Methoden erschließt sich ein breites Anwendungsspektrum auf den Gebieten der Werkstoff- und Lebenswissenschaften. Neben Anwendungen in der biologischen Strukturforschung sind Untersuchungen an dünnen Filmen und Halbleiterstrukturen Schwerpunkte künftiger Arbeiten.

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